1700℃真空高溫管式爐GSL-1700X-S60采用1800℃級硅鉬棒為加熱元件，Z高溫度可達到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火。

1700℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅱ每個溫區(qū)長300mm，由30段智能溫度調節(jié)儀進行控溫，采用硅鉬棒加熱元件溫度可達1700℃，采用硅碳棒加熱元件溫度可達1400℃，通過調節(jié)兩個溫區(qū)的控溫程序使爐管內溫度場形成一溫度梯度。本機可用于CVD或PVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。

1700℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅲ采用三個數(shù)字溫度控制器進行獨立控溫，可設置30段升降溫程序，中心加熱區(qū)采用800℃級硅鉬棒加熱，另外兩個溫區(qū)采用硅碳棒進行加熱，調整三個溫區(qū)的溫度，可形成一個溫度梯度，進行功能材料的制備。同時，本機也適用于CVD法制作薄膜外延生長。

1700℃立式高溫管式爐GSL-1700X-80VT采用硅鉬棒進行加熱，Z高溫度可以達到1700℃，專門針對于材料在真空或氣氛保護環(huán)境下的燒結。溫控系統(tǒng)采用PID控制器，可設置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。